Proprietà chimiche e fisiche
- Aspetto: Gas incolore o gas liquefatto
- Punto di ebollizione: 12,5 ° C (54,5 ° F)
- Punto di fusione: -107,3 ° C (-161,1 ° F)
- Densità: 1.35 g / cm3 (liquido)
- Pressione di vapore: 1380 mmHg a 20 ° C
- solubilità: Reagisce violentemente con l'acqua, formando cloruro di idrogeno e acido borico
- Corrosione: Altamente corrosivo per metalli, vetro e tessuti umani
Principali caratteristiche e vantaggi
✅ Potente acido di Lewis Efficace nella sostituzione elettrofila e nella catalisi
✅ Alta reattività nella sintesi chimica: Ideale per la produzione di alogenati e composti di boro
✅ Critico nella lavorazione dei semiconduttori: Usato in incisione al plasma e nella fabbricazione di materiali ad alta purezza
✅ Forte catalizzatore per le industrie polimeriche e petrolchimiche: Migliora l'efficienza della reazione nelle applicazioni industriali
✅ Gradi ultra-purificati disponibili: Adatto per applicazioni elettroniche e farmaceutiche
applicazioni industriali
Industria dei semiconduttori e dell 'elettronica
- Plasma Etching e Deposition Chimica di Vapore (CVD):
- Utilizzato per l'incisione selettiva di materiali come il tungsteno, ossidi di silicio e nitruri.
- Lavorato nella produzione avanzata di microelettronica.
- Agente dopante nella lavorazione di semiconduttori:
- Usato per introdurre il boro nei wafer di silicio, modificando le loro proprietà elettriche.
Sintesi organica e inorganica
- Catalizzatore nelle reazioni organiche:
- Utilizzato nelle reazioni di alquilazione e acilazione di Friedel-Crafts.
- Gioca un ruolo nella sintesi di prodotti chimici e farmaceutici contenenti boro.
- Agente di alogenazione:
- Usato nella sintesi di alogenuri di boro e altri prodotti chimici speciali.
Industria petrochimica e polimerica
- Catalizzatore per la lavorazione degli idrocarburi:
- Migliora le reazioni di polimerizzazione nella produzione di materie plastiche speciali e elastomeri.
- Additivi per lubrificanti e rivestimenti:
- Forma lubrificanti ad alte prestazioni con stabilità termica superiore.
Materiali ad alte prestazioni e Aerospaziale
- Fibra di boro e produzione di nitruro di boro:
- Usato come precursore nella produzione di materiali compositi avanzati con elevati rapporti forza-peso.
Reattività & considerazioni di sicurezza
di.️ Gas altamente corrosivo e tossico!
- Sensibilità all ' acqua: Reagisce violentemente con l'acqua, rilasciando cloruro di idrogeno (HCl), un gas tossico e corrosivo.
- Sensibilità dell ' aria: Deve essere manipolato in un ambiente asciutto e controllato per evitare reazioni pericolose.
- Precauzioni di manipolazione:
- Utilizzare solo in cappucci o in sistemi chiusi con una ventilazione adeguata.
- Evitare l'esposizione all ' umidità, alla pelle e agli occhi.
Manipolazione & stoccaggio
- Condizioni di conservazione:
- Conservare in cilindri ben sigillati e privi di umidità sotto un gas inerte secco (argon o azoto).
- Conservare in un 'area di stoccaggio ben ventilata e controllata alla temperatura.
- Dispositivi di protezione personale (PPE):
- Guanti resistenti alle sostanze chimiche, occhiali di sicurezza e abiti protettivi.
- Utilizzare sistemi di rilevazione dei gas e protocolli di risposta alle emergenze.
- Misure di Primo Soccorso:
- Inalazione: Spostare immediatamente all 'aria fresca; cercare cure mediche.
- Contatto pelle / occhio: Sciacquare con grandi quantità di acqua e cercare cure di emergenza.
Imballaggio e disponibilità
Disponibili in:
- cilindri 50L, 100L
- Livelli di purezza personalizzati e soluzioni complesse disponibili su richiesta (grade elettronico, grade industriale di alta purezza)
Il tricloruro di boro (BCl3) è un gas incolore, tossico ed altamente reattivo con un odore pungente. Come forte acido di Lewis, svolge un ruolo vitale nella sintesi organica, nella produzione di semiconduttori e nella produzione di materiali ad alte prestazioni. Si idrolizza facilmente in presenza di umidità, formando cloruro di idrogeno (HCl) e derivati dell 'acido borico. Il BCl3 è ampiamente utilizzato nei processi di incisione, nella produzione di catalizzatori e come reagente nella deposizione chimica a vapore (CVD).
